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칼럼

테헤란은 법적 지식을 공유하여 고객님들께 한걸음 더 다가갑니다.

아산변리사,아산특허사무소 찾던 의뢰인들이 등록에 성공할 수 밖에 없던 이유

2022.01.24 조회수 568회

<목차>

 

   1. 등록에 성공할 수 밖에 없는 이유 

   -  등록률 98%를 유지하는 특허법인 테헤란

 

   2.  아산변리사, 아산특허사무소 찾던 의뢰인의 특허등록 성공 스토리

      -  의뢰인이 테헤란을 선택해 등록에 성공한 스토리를 소개합니다

 

   3. 맺음말

 

 

 


 

 

 

1. 등록에 성공할 수 밖에 없는 이유 

 

 

 

당소에서 대리하여, 특허등록까지 무사히 성공한 사례만을 소개 드리는 칼럼입니다.

 

등록되지 않을 특허는 처음부터 권유 드리지 않습니다.

 

테헤란이 특허 등록률 98%이상을 유지하는 비결입니다.

 

특허와 관련된 고민이 있으시다면, 당소와의 상담을 자신있게 추천 드립니다.

 

 

 


 

 

 

2.  아산변리사, 아산특허사무소 찾던 의뢰인의 특허등록 성공 스토리

 

 

 

 

 

 

발명의 명칭: 디스플레이 패널 제조에 사용되는 플라즈마 처리장치용 내부부품의 표면처리방법

 

특허출원번호: 10- 2020-0136247 (특허출원일: 2020년 10월 20일)

 

특허등록번호: 10-2209860 (특허등록일: 2021년 1월 25일)

 

 

 

 

 

 

본 발명은 디스플레이 패널 제조에 사용되는 플라즈마 처리장치용 내부부품의 표면처리방법에 관한 것으로,

 

 

더욱상세하게는 산화이트륨 분말을 연소불꽃에 공급하는 산화이트륨공급단계,

 

 

상기 산화이트륨공급단계를 통해 용융된 산화이트륨을 디스플레이 패널제조용 플라즈마 장치 부품의 표면에 분사하여 피복층을 형성하는

 

 

산화이트륨피복단계 및 상기 산화이트륨피복단계를 통해 형성된 피복층을 연마하는 연마단계로 이루어집니다.

 

상기의 과정을 통해 표면처리된 디스플레이 패널 제조에 사용되는 플라즈마 처리장치용 내부부품은 표면거칠기가개선된

 

 

산화이트륨 피막이 형성되어 에칭가스에 노출되는 면적이 줄어들고, 에칭가스에 노출시 부식이 억제되며,

 

 

플라즈마 챔버 내부가 입자나 반응생성물로 인해 오염되는 것을 줄여주는 효과를 나타냅니다.

 

 

 

 

 

해당 사건을 의뢰해주신 고객분께서는 빠른 특허 등록을 통해 신속한 사업진행을 원하셨습니다.

 

그에 따라 당소에서는 우선심사신청을 통해 고객분의 특허를 좀 더 빠르게 등록할 수 있도록 도와드렸습니다.

 

심사과정 중 거절결정에 따른 의견제출통지서가 발송되었지만 당소 측에서 거절이유 등 통지에 따른

 

 

의견을 진술하여 특허성을 입증함으로써 성공적으로 특허를 등록받게 되었습니다.

 

 

 


 

 

3. 맺음말

 

 

지금도 많은 분들이 테헤란을 선택해 주고 계십니다.

 

 

 

빠른 취득을 원하기 때문에, 무조건 등록을 원하기 때문에,

 

 

 

또는 활용을 할 수 있는 권리범위를 가지기 위해서 등 이유는 다양한데요.​

 

어떤 목적이든, 테헤란은 이뤄드립니다.

 

잘하는 곳을 찾았다면 더 나은 서비스를 제공하는지도 확인해 보시기 바랍니다.

 

테헤란은 출원과정에서 경력 10년 이상의 베테랑 변리사가 직접 상담을 진행해 드립니다.

 

 

 

중간 과정을 과감히 생략함으로써 고객사가 불필요하게 대기하는 시간을 줄였는데요.

 

긴말하지 않고, 시스템으로 보여드리겠습니다.

 

 

 

테헤란은 고객사의 불필요한 노력 낭비를 줄여드리기 위해 최선을 다하고 있습니다.

 

감사합니다.

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